广州伟明金属加工机械有限公司
新闻详情

和大家谈谈平面抛光机的原理

发表时间:2019-04-26 10:11作者:JAMES来源:伟明机械

平面抛光机对应的机理其实是由三种原理结合而成的,在平面抛光机中过程当中是会出现化学作用,物理机械磨损以及是表面流动的理论的。

    1.化学作用理论。在抛光过程时,工件表面,抛光剂,抛光模和水的作用下,发复杂的化学过程。如,光学玻璃表面发生水解过程,或者硬脆性材料发生化学腐蚀过程。

    2.机械磨削理论。抛光是继研磨之后的工作,其两者本质相关不大。都是通过尖硬的磨料颗粒对工件表面进行细微切削作用的结果。但抛光用的磨料对于研磨的磨料颗粒更加细微的抛光剂,微小的切削可以在分子大小范围内进行。抛光模与工件表面吻合相当,抛光时切向力较大,从而使工件表面凹凸的微裂结构被磨切掉,就形成了工件光滑的表面。

    3.表面流量理论。工件表面由于高压和相对运动,摩擦生热致使表面产生塑性的流动,凸起部分会凹下部分填平,形成光滑的抛光表面。分别有两种理论:

    (1)是根据抛光表面用金钢石划成图案,然后抛掉,而再用酸腐蚀后图案划痕再现。

    (2)是由抛去厚度计算的抛去重量比实测的大得多,于是就认为抛光的质量填到表面凹凸层的谷部。由此说明流动作用的覆盖。

    综上所述,抛光过程是极其复杂的,至今也没有完善统一的结论。以上据说的理论化学作用是必须的,而机械理论是基本的,表面流动理论也存在一定的可能性。